Der Maschinen- und Anlagenbau in der Halbleiterindustrie ist hoch komplex. Automatisierungskomponenten müssen hohe Anlagenverfügbarkeit, Präzision und Reproduzierbarkeit gewährleisten. Die fortschreitende Dekarbonisierung der Industrie erfordert eine Minimierung des Ressourceneinsatzes durch die Reduktion der Produktionsenergie. Eine wichtige Stellschraube für zunehmende Energieeffizienz und sinkende Kosten ist Stickstoff. Mit dem N2-PurgeSystem hat Festo eine nachhaltige Lösung entwickelt, die hilft, das Edelgas effizient einzusetzen. Prozesse lassen sich gezielt optimieren und die Qualität der Halbleiter sichern. Gleichzeitig wird der Stromverbrauch reduziert, die Kosten werden gesenkt und CO2-Einsparungsziele erreicht. Die verschiedenen Einflussfaktoren auf die Betriebskosten zu erkennen, ist für Halbleiterhersteller entscheidend. Selbst kleine Einflussfaktoren können eine große Wirkung erzielen. Optimierte Anlagenwartung, verbesserte und energieeffiziente Prozesse, effektives Umweltmanagement und strategisches Materialmanagement in Beschaffung, Lagerung und Produktion können die Betriebskosten erheblich reduzieren und die Rentabilität und Wettbewerbsfähigkeit maximieren. Die ganzheitliche Betrachtung sämtlicher Aspekte der Kostenoptimierung und die Steigerung des Yields in der gesamten Produktion sind der Schlüssel zum Erfolg in der Halbleiterindustrie. Bis zu 50.000 Kubikmeter Stickstoffverbrauch Ein Halbleiterwerk verbraucht große Mengen an Wasser, Strom, Flüssigchemie und Prozessgasen. Das am häufigsten verwendete Medium im Herstellungsprozess von Halbleitern ist Stickstoff (N2). Dieser wird unter anderem zum Spülen von Transportbehältern für Wafer, so genannten FOUPs, eingesetzt. Front Opening Unified Pods (FOUPs) schaffen beim Wafertransport zwischen Arbeitsstationen eine kontrollierte, kontaminationsfreie Umgebung. In großen Chipwerken kann der Stickstoffverbrauch bis zu 50.000 Kubikmeter pro Stunde betragen. Per Luftzerlegungsanlage wird N2 energieintensiv vor Ort gewonnen und den Prozessen bereitgestellt. Vorteil Piezotechnologie Eine sorgfältige Analyse der Bereiche, in denen Stickstoff verwendet wird, kann in kurzer Zeit zu erheblichen Einsparungen führen. Besonders das Dosieren von N2 zum Spülen der FOUPs bietet große Potenziale, ersetzt man die bisherigen StandardVentilsysteme durch N2-Purge-Systeme von Festo mit geschlossenem Regelkreis und Piezo-Technologie. Im Vergleich zu konventionellen Ventilen dosieren piezoelektrische Spülventile hochpräzise und verbrauchen gleichzeitig extrem wenig Strom. Mit N2-Purge-Systemen von Festo lassen sich der Stickstoffverbrauch eines großen Halbleiterwerks und der damit verbundene Energieverbrauch sowie die CO2-Emissionen signifikant senken. „Das bedarfsgerechte und exakte Dosieren von Stickstoff bietet signifikante Einsparpotenziale.“ Tobias Glattbach, Global Industry Segment Manager Electronics, Festo Mehr Informationen zur Automatisierung in der Halbleiterindustrie finden Sie hier: > www.festo.com/semicon N2-Purge-Systeme reduzieren Stickstoffverbrauch Semicon
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